EUV微影和Overlay控制詳解

承湘科技成功研發自動傳送機構，結合可見光量測模組，應用於晶圓結構三維關鍵尺寸與Overlay 疊對量測確認，有效協助客戶節省量測時間與提高精度，是黃光製程不可或缺的首選 ...

由於半導體製程關鍵尺寸(Critical Dimension) 設計的逐年減小，利用傳統光學顯微. 鏡判讀半導體 ... (Overlay measurement)，TIS(Tool Induce Shift)，WIS(Wafer Induce.

AUROS Overlay 影像檢測機台OL 100 OL-100 台灣 ... 母公司FST,Ltd.創立於1987年，為韓國著名的的半導體 ... Overlay量測系統有著極高的專業與成熟度，目前OL系列機種於 ...

Overlay 既然代表著前層與當層的對準狀況，因此量測的結果就會受到前層與當層圖形的影響，前製程所沉積的薄膜會因為生成的特性，影響到量測mark 的圖形，而當層因為是光阻 ...

本發明係有關於半導體製程之光罩對位(mask overlay)技術。 製作半導體裝置時，半導體裝置不同製作層上需設計對位標記(overlay mark)。當前製作層(current layer，以下 ...

由 陳智信 著作 · 2020 — 半導體黃光製程覆蓋誤差改善. Overlay Error Improve of Semiconductor Photolithography Process. 陳智信(Jhih-Sin Chen). 指導教授： 劉寅春. 淡江大學/工學院/電機工程 ...

2008年8月29日 — 微影疊對(overlay)顧名思義就是層對層(layer to layer)。晶片製造過程中，製程整合等工程人員依據電路線寬等特性，將龐雜的電路走線區分為不同光罩層 ...

2020年5月19日 — 晶圓廠使用疊對量測(overlay metrology)技術來測量和控制生產製程中的圖案/圖案對準。疊對誤差通常是在目標(整個曝光場中處於獨立位置的特殊圖案結構)上 ...

2018年11月15日 — Overlay是IC製造中的關鍵參數之，其意義是當層與前層圖案(pattern)間對準的精準度(圖1)。 各層元件之間的電路連結，例如從電晶體到接觸點到導電連接， ...

由於製造商永遠受限於以最低成本製造最小元件特徵的要求，因此光學微影的解析度限制決定了半導體產業的生產能力。本文將闡述這些限制以及現今的趨勢，目標為協助業界延伸與 ...